Der Photoresist weist einen hohen Brechungsindex in Kombination mit einer hohen Dispersion auf, was einer niedrigen Abbe-Zahl entspricht. Diese Eigenschaften sind besonders vorteilhaft für die 3D-Mikrofabrikation von innovativen mikrooptischen Designs. Mit einer niedrigen Absorption im Infrarotbereich ist der Photoresist die beste Wahl für Infrarot-Mikrooptiken sowie für Anwendungen in den Bereichen Optische Kommunikation oder Quantentechnologie.

Das neue Druckmaterial IP-n162 wurde speziell für die additive Herstellung auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation entwickelt. Dies gewährleistet eine hohe Formgenauigkeit und dient der Weiterentwicklung hochpräziser Mikrolinsen und Freiform-3D-Mikrooptiken. Polymere mit hohem Brechungsindex verbessern eine Vielzahl von Anwendungen, wie beispielsweise die visuellen Eigenschaften von Anzeigegeräten oder Kamera- und Projektorlinsen.

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